DMD無(wú)掩膜光刻機(jī) 參考價(jià):面議
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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用優(yōu)良的場(chǎng)發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)